Funktionale Einführung:
Sauerstofffreie Sinterbehandlung in einer Hochvakuumumgebung, geeignet für Hochtemperatur-Keramikmaterialien wie Siliziumkarbid und Bornitrid, mit einer maximalen Temperatur von 2200℃.
Anwendungsszenarien:
Herstellung von Hochleistungsstrukturkeramik, Keramik mit hoher Wärmeleitfähigkeit und Keramik mit hoher Dielektrizitätskonstante
Sintern von Keramiktargets, verschleißfesten Teilen, Filtern und anderen Produkten
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